中國買不到最先進EUV機 ASML:晶片製造技術落後10至15年

荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾(ASML)執行長福克(Christophe Fouquet)表示,美國禁止極紫外光(EUV)曝光設備出口中國的禁令確實有效,導致中國晶片技術落後西方10至15年。

福克接受荷蘭《鹿特丹商報》(NRC)專訪指出,由於無法取得取先進的EUV設備,中芯國際與華為只能使用深紫外光(DUV)曝光設備,在成本效益上無法與晶片代工龍頭台積電的製程技術相提並論,目前落後西方約10至15年,華府的禁令確實產生效果。

每個環節中國都有一定基礎

不過,福克表示,即使ASML無法向中國供應最先進的EUV技術,但中國晶片業界仍在奮力研發,在每個環節都具備一定基礎,持續自主發展,而不論中、美或其他國家,都視ASML為一塊關鍵拼圖。

全球約90%晶片由ASML的曝光設備生產,隨著先進製程朝5納米及以下進化,EUV已是未來曝光技術和先進製程的核心,現主要用於7納米及以下的先進晶片製程,而ASML是唯一EUV設備供應商。

華為及合作夥伴已在積極開發極紫外線曝光技術,以建立自家的晶片製造設備和生態系統;有報道指出,雖然中國不太可能短期內打造出可生產5納米晶片、類似「Twinscan NXT:2000i」的DUV設備,但複製出不太先進的東西可容易得多。

對於近月屢傳美國要求荷蘭禁止ASML為中國客戶提供維修服務,福克表示,ASML希望可以管理在中國的機器,若由當地客戶自行維修設備以維持晶片工廠運作,恐更容易出現資訊外洩,希望華府能明白箇中道理。

編輯:李向陽(台北) 網編:陳家傑